致力于iCVD及其集成多功能薄膜沉积设备的产业化
薄膜沉积厚度可纳米级精确控制
iCVD薄膜沉积技术优点突出,技术领先
薄膜应用领域广泛,包括柔性电子器件、半导体等
提供关于高分子薄膜、iCVD工艺、设备组建等全方位技术咨询服务。
提供高分子薄膜、iCVD或其他定制化镀膜特色服务,满足客户个性化需求。
面向产业、学术界,联合研发面向产品的高分子薄膜材料
什么是iCVD? iCVD,全称 引发化学气相…
本文章摘自WILEY Analytical S…
北京大学引入埃纳膜iCVD设备 开启有机纳米材…
一家致力于化学气相沉积设备研发、生产、销售、技术服务和咨询,以及新型高分子材料研发和应用推广的科技公司。
引领以iCVD为核心技术的产业化发展和技术革新;成为国内首屈一指的多领域薄膜沉积方案提供商。
提高自主研发能力,加强核心技术创新,实现科技设备和技术的国产化替代