欢迎来到芯纳辰微Thinnar
Thinnar™ iCVD
Industrial
产业化
致力于iCVD薄膜沉积工艺产业化
Nanoscale
纳米级
薄膜沉积厚度可纳米级精确控制
Advanced
先进
低温气相聚合物薄膜共形沉积技术，优点突出
Film
薄膜
薄膜应用领域广泛，包括泛半导体、生物医疗、储能等
服务Services
Our Services For Clients
技术咨询 Consulting
提供关于iCVD相关材料、工艺、设备等技术咨询服务。
定制镀膜 Coating
提供iCVD定制化镀膜特色服务，满足客户个性化需求。
研发代工 R&D
提供产业、产品端的功能薄膜气相沉积工艺/材料的研发。
产品Products
Products We Design
我们提供标准型与定制化 iCVD 设备，兼顾成熟量产方案与个性化需求。
科研级iCVD设备 iCV4
适用于实验室小型研发项目:
样品尺寸： ≤4英寸；
单体气路：≤2条；
引发剂气路：1条;
基底温度：10~80℃;
压力控制：≤10 torr
样品尺寸： ≤4英寸；
单体气路：≤2条；
引发剂气路：1条;
基底温度：10~80℃;
压力控制：≤10 torr
科研级iCVD设备 iCV8
适用于实验室或产业研发项目:
样品尺寸： ≤8英寸；
单体气路：≤4条；
引发剂气路：1条;
基底温度：10~80℃;
压力控制：≤10 torr
样品尺寸： ≤8英寸；
单体气路：≤4条；
引发剂气路：1条;
基底温度：10~80℃;
压力控制：≤10 torr
科研级iCVD设备 iCV12
适用于实验室或产业研发项目:
样品尺寸： ≤12英寸；
单体气路：≤6条；
引发剂气路：2条;
基底温度：-10~150℃;
压力控制：≤10 torr
样品尺寸： ≤12英寸；
单体气路：≤6条；
引发剂气路：2条;
基底温度：-10~150℃;
压力控制：≤10 torr
关于我们About Us
北京芯纳辰微科技有限公司（Thinnar），致力于新一代有机薄膜气相沉积技术研发与产业化落地。
企业秉持创新理念，务实开拓，聚力突破行业技术壁垒，致力成长为深耕前沿领域、兼具科研实力与创新活力的优质科技企业。
Beijing Thinnar Microtech Co. Ltd., commits itself to the R&D and industrial implementation of new-generation organic thin film vapor deposition technologies.
Adhering to innovation philosophy and pursuing steady progress, we strive to break through industrial technical barriers, and aim to evolve into an outstanding technology enterprise with solid research capabilities and vibrant innovative strength in cutting-edge fileds.
定义【Thinnar】
Who We Are
一家致力于化学气相沉积设备研发、生产、技术服务咨询，及新型聚合物材料研发和应用推广的创新型科技公司。
企业愿景
Our Vision
力争在iCVD为核心技术的产业化发展中夯实基础，共建材料科技新生态；成为国内多领域薄膜沉积平台方案提供商。
企业使命
Our Mission
聚力提升自主研发实力，深耕核心技术持续创新，攻坚行业技术壁垒，全力实现精密科技设备与高端镀膜技术国产化自主替代。